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產(chǎn)品技術(shù)
Products
氣體萃取設備
所屬分類(lèi)：
產(chǎn)品概述
卓遠半導體運用先進(jìn)工藝，以氣體萃取工藝技術(shù)為核心，研發(fā)出氣體萃取設備。需搭配我司Intelligent Gas Injection System (IGI)系列氣體注入設備使用。
立即聯(lián)系
氣體萃取設備
Intelligent Gas Extraction System (IGE)系列氣體萃取系統，采用微波電漿化學(xué)氣相沉積法(MPCVD)制備，主要用于金剛石長(cháng)晶過(guò)程中的摻雜氣體萃取。
技術(shù)參數
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序號 |
項目 |
規格/參數 |
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01 |
尺寸（約） |
1400 W x700D X1950H (mm) |
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02 |
重量（約） |
350 kg |
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03 |
微波功率 |
1.3kw/2.45GHZ |
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04 |
腔體材料 |
Aluminum alloy |
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05 |
冷卻方式 |
Water-cooling |
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06 |
底盤(pán)高度 |
14mm |
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07 |
主要氣體管道 |
H? |
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08 |
工作壓力范圍 |
10-300 torr |
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09 |
真空檢漏值 |
1X10-6mbar.l/sec |
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10 |
真空泵 |
Rotary Pump(250)liters Per Min |
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11 |
CDA壓力 |
2-4 kg/cm2 |
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12 |
水壓 |
3-5kg/cm2 |
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13 |
電壓 |
3Φ220V±10%/50Hz/60Hz |
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14 |
電流 |
20 A |
關(guān)鍵詞：
氣體萃取
金剛石
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