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產(chǎn)品技術(shù)
Products
氣體注入設備
所屬分類(lèi)：
產(chǎn)品概述
卓遠半導體運用先進(jìn)工藝，以氣體注入工藝技術(shù)為核心，研發(fā)出氣休注入設備，需搭配我司 Intelligent MPCVD Diamond Growth System (IMD)系列金剛石晶體生長(cháng)系統使用。
立即聯(lián)系
氣體注入設備
Intelligent Gas Injection System (IGI)系列氣體注入系統，采用微波電漿化學(xué)氣相沉積法(MPCVD)制備，主要用于金剛石長(cháng)晶過(guò)程中的氣體注入。
技術(shù)參數
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序號 |
項目 |
規格/參數 |
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01 |
尺寸 |
700(W)*580(D)*1720(H)mm |
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02 |
重量 |
150kg |
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03 |
電壓 |
3Φ220V±10%/50Hz/60Hz |
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04 |
電流 |
5A |
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05 |
CDA壓力 |
2-4 kg/cm2 |
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06 |
主要氣體管道 |
H? |
關(guān)鍵詞：
氣體注入
金剛石
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